第三百六十一章 确保原型机隐形效果（2 / 2）

化为现实。

他们很快就遇到了预料之中的技术障碍。

张恒召集了一个紧急会议，讨论涂层控制的问题。

会议室内，工程师小李发言：“我们在涂层过程中遇到了一些困难，当前的设备无法达到我们对涂层厚度和均匀性的精确要求，这直接影响了涂层的光学特性。”

材料科学家小林也表达了自己的担忧：“确实，我们的实验室测试显示，即使是微小的厚度偏差也会大幅度影响材料的光学拟态效果，我们需要找到一种更为精确的涂覆技术。”

张恒沉思片刻，然后说道：“这是我们一定要克服的技术难题，小李，小林，你们有没有可能的解决方案？”

小李回答说：“我建议我们可以尝试使用原子层沉积（ALD）技术。这种技术可以在原子级别上控制薄膜的生长，从而实现极高的厚度精度和均匀性。”

小林点头表示同意：“ALD技术是一个不错的选择，此外，我们还可以结合化学气相沉积（CVD）技术来优化涂层过程，通过精细控制化学反应的条件，可能会有所突破。”